产品说明

一般描述

铜基板上的单层石墨烯膜。
该产品在石墨烯的顶部配有 PMMA 涂层，以简化转移过程并避免污染。它′是具有高均匀性的高质量产品。

石墨烯膜

• 生长方式：CVD 合成
• 外观：透明膜
• 透明度： > 97%
• 覆盖范围： > 95%
• 石墨烯层数：1
• 厚度(理论值)：0.345 nm
• Al₂O₃ 上的 FET 电子迁移率：2000 cm²/Vs
• SiO₂/Si 上的 FET 电子迁移率：4000 cm²/Vs
• SiO₂/Si 上的薄层电阻：450±40 Ω/平方(1cm x1cm)
• 晶粒大小：高达 10 μm

• 厚度：18 μm
• 为了更容易去除底层而进行预处理:铜背面的单层石墨烯被部分去除，但不是全部去除。因此，在转移之前需要另外进行类似 RIE 的处理，以完全消除底层。

• 旋转途径，确保高均匀性
• 分子量：495k
• 厚度：<100 nm
• PMMA 型号：495K，A2

应用

• 石墨烯研究
• 柔性电池
• 电子产品
• 航空航天业
• MEMS 和 NEMS
• 微执行器
• 导电涂层

基本信息

产品性质

安全信息