产品说明

一般描述

硝酸铈铵基蚀刻剂。室温下蚀刻速率为40埃/秒。只需用去离子水冲洗干净即可蚀刻。
铬蚀刻剂是铬基溶液，可从底物移除多余金属。这些蚀刻剂主要用于金属表面处理和电子工业。蚀刻速率为4 mm/s，可用于蚀刻镍、铜和铬基多余金属。

应用

该产品可蚀刻铝、铬、铜、镍、GaAs。它能表面氧化硅、钽/TaN，但对Si₃N₄, SiO₂, Ti, 和 W表面没有影响
用于室温或高温条件。蚀刻干净，省去中间清洗环节。蚀刻温度随膜的厚度而改变。室温下蚀刻时间在 15 到 60 秒之间。注意，应在通风良好的通风橱内处理铬蚀刻剂。

包装

500 mL in poly bottle

特点和优势

设计用于铬和氧化铬薄膜的精确、清洁蚀刻。与正性和负性光致抗蚀剂均可相容。经 0.2 微米孔过器过滤以去除微粒。

基本信息

产品性质

安全信息

象形图
警示用语：	Danger
危险声明	H272 - H290 - H314 - H317 - H411
预防措施声明	P210 - P220 - P273 - P280 - P303 + P361 + P353 - P305 + P351 + P338
危险分类	Aquatic Chronic 2 - Eye Dam. 1 - Met. Corr. 1 - Ox. Liq. 2 - Skin Corr. 1B - Skin Sens. 1
补充剂危害	EUH071
储存分类代码	5.1B - Oxidizing hazardous materials
WGK	WGK 3
闪点(F)	Not applicable
闪点(C)	Not applicable