产品说明
一般描述
硝酸铈铵基蚀刻剂。室温下蚀刻速率为40埃/秒。只需用去离子水冲洗干净即可蚀刻。
铬蚀刻剂是铬基溶液,可从底物移除多余金属。这些蚀刻剂主要用于金属表面处理和电子工业。蚀刻速率为4 mm/s,可用于蚀刻镍、铜和铬基多余金属。
应用
该产品可蚀刻铝、铬、铜、镍、GaAs。它能表面氧化硅、钽/TaN,但对Si3N4, SiO2, Ti, 和 W表面没有影响
用于室温或高温条件。蚀刻干净,省去中间清洗环节。蚀刻温度随膜的厚度而改变。室温下蚀刻时间在 15 到 60 秒之间。注意,应在通风良好的通风橱内处理铬蚀刻剂。
包装
500 mL in poly bottle
特点和优势
设计用于铬和氧化铬薄膜的精确、清洁蚀刻。与正性和负性光致抗蚀剂均可相容。经 0.2 微米孔过器过滤以去除微粒。
基本信息
MDL编号 | MFCD07370678 |
NACRES | NA.23 |
产品性质
质量水平 | 100 |
等级 | standard |
组成 | volatiles, 85% |
颜色 | orange |
bp | 100 ℃/1 atm |
密度 | 1.16 g/mL at 25 ℃ |
安全信息
象形图 | |
警示用语: | Danger |
危险声明 | H272 - H290 - H314 - H317 - H411 |
预防措施声明 | P210 - P220 - P273 - P280 - P303 + P361 + P353 - P305 + P351 + P338 |
危险分类 | Aquatic Chronic 2 - Eye Dam. 1 - Met. Corr. 1 - Ox. Liq. 2 - Skin Corr. 1B - Skin Sens. 1 |
补充剂危害 | EUH071 |
储存分类代码 | 5.1B - Oxidizing hazardous materials |
WGK | WGK 3 |
闪点(F) | Not applicable |
闪点(C) | Not applicable |
Sigma-Aldrich